İçeriğe geç
05 / 06IFU 07-2024

els extra low shrinkage® duobond

IFU 07-2024TEGDMA ve HEMA içermezDual-Cure

Işıkla, self-cure veya dual-cure dolgu/sabitleme materyalleriyle kullanılabilen iki komponentli self-etch bond. Özellikle els extra low shrinkage® cem ile indirekt restorasyon simantasyonunda tamamlayıcı adheziv olarak konumlanır.

  • Dual-cure iki komponentli self-etch bond; base ve catalyst eşit damla karıştırılır
  • Direkt self/dual-cure kompozit restorasyonlar, core build-up ve kök postu simantasyonunda kullanılabilir
  • Self- veya dual-cure simanlarla ışık uygulanmadan da bağ oluşturur; opsiyonel 10 sn ışık uygulanabilir
  • TEGDMA ve HEMA içermediği IFU'da belirtilmiştir
  • els cem ile birlikte indirekt restorasyon protokolünü tamamlar
Endikasyonlar1. Direkt self- veya dual-cure kompozit restorasyonlar ve core build-up · 2. Işıkla sertleşen kompozit bazlı direkt restorasyonlar · 3. Dual/self-cure kompozit simanlarla kök postu sabitleme · 4. Dual/self-cure kompozit simanlarla inley, onley, kuron ve köprü sabitleme
Teknikİki komponentli self-etch; base + catalyst 1:1 damla karışımı
Komponentlerels duobond base ve els duobond catalyst
UyumlulukIşıkla, self-cure veya dual-cure dolgu/sabitleme materyalleri; ideal kombinasyon: els cem

Bu ürün bilgileri sağlık meslek mensuplarına yöneliktir. Klinik uygulama, saklama ve güvenlik kararlarında ürün etiketi ile resmi IFU/SDS/TDS dokümanları esas alınmalıdır.